中文名稱: 單晶硅打孔靶材
發布時間: 2021-04-07 11:46:07
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材質:多晶硅或單晶硅
純度:5N--6N
表面粗糙度:
尺寸及公差:根據客戶要求定制
硅靶材主要用于平板顯示器和微電子領域的濺射靶材。
靶材的主要性能要求
純度:純度是靶材的主要性能指標之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。
密度:為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布:通常靶材為多晶結構,晶粒大小可由微米到毫米量級。
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